안녕하십니까, 교수님. 전자과 3학년 학부생입니다.

최근 공정에 사용되는 실제 플라즈마 설비 구조가 궁금하여 조금 조사해보았는데, 질문 드리고 싶은 부분이 몇가지 있습니다.

 

1. CCP의 경우, gas injection의 효율상 전극 하부에 최대한 가깝게 Shower head를 설치해야할 것이라고 생각합니다. 혹은 용어만 다를 뿐 실제로는 Powerd Electode=Shower head일까요?

 

2. ICP에서 상부에 안테나와 플라즈마를 격리하는 Quartz window는 Skin depth를 최대한 늘리기 위한 물질을 선택한 것인가요?

 

3.Planar ICP의 경우에는 Quatz window 하부에 Shower head 장착이 가능한지, 

Cylindrical 구조의 ICP의 경우 상부에 Shower head를 장착하고, 챔버 측면이 Quartz로 덮여있는지 궁금합니다. 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77111
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20407
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57318
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68859
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92874
801 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 25
800 Druyvesteyn Distribution 30
799 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 40
798 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 44
797 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 44
796 플라즈마 식각 커스핑 식각량 46
795 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 50
794 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 56
793 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 69
792 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 77
791 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 78
790 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 87
789 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 90
» 플라즈마 설비에 대한 질문 96
787 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 97
786 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 100
785 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 106
784 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 111
783 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 115
782 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 128

Boards


XE Login