안녕하세요! DC Arc Plasma Torch 연구하고 있는 연구원 입니다.

 

Plasma 를 이용한 스크러버를 연구하고 반도체 공정에서 적용하여 DCS, NH3 가스를 처리하고 있습니다.

 

스크러버는 음압으로 운영 중이며, Torch 는 정전류 방식, 케리어 가스는 N2, DC Arc Plasma 로 사용중입니다.

 

질문! 정전류로 Voltage 값이 유지되다가 Voltage 값이 서서히 상승하는 현상을 발견했습니다.

 

보통 Anode 식각으로 Voltage 가 떨어지는것으로 알고있는데, Voltage 가 상승할 수 있는 원인이 무엇이 있는지 알수 있을까요?

 

감사합니다~

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102039
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24528
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61179
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73224
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105429
833 Ar Plasma로 AlN Pedestal 표면에 AlFx desorption 가능 여부가 궁금합니다. [1] 105
832 PEALD 챔버 세정법 [1] 169
831 RF BIAS REDLECT POWER HUNTING 문제 [1] 205
830 RF ROD 연결부 부하로 인한 SHUNT, SERIES 열화 [2] file 274
829 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 361
828 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 484
827 CCP 장비 하부 전극 dc 펄스 전력 [1] 343
» DC Arc Plasma Torch 관련 문의 [1] 302
825 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] [1] 470
824 동일한 RF방전챔버에서 화학종별 이온화율에 대한 질문 [1] 253
823 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 716
822 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 409
821 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 457
820 RF플라즈마에서 quasineutral에 대해 궁금한게 있어 질문글 올립니다.[quasineutral] [1] file 541
819 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 715
818 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation] [1] 873
817 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 435
816 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 559
815 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 708
814 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 641

Boards


XE Login