Others AP plasma 공정 관련 문의
2023.12.21 09:20
안녕하세요 플라즈마 업체 쪽에서 근무하고 있는 황보람입니다.
당사 내에서 전극에 N2+Air를 사용중이며, 샘플을 평가할 때 성능이 좋은 편인데
현장에 납품하면 갑자기 성능이 당사에서 봤던 성능이 안 나옵니다..
Gas 순도나 공정환경의 온도 및 습도까지 동일하게 해봤는데도 동일 시 안 나오는데 원인에 대한 부분이 뭐가 있을까요..?
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76855 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20262 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57193 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68747 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92610 |
| 777 | 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] | 203 |
| 776 | ICP에서 전자의 가속 [1] | 152 |
| 775 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 63 |
| 774 | Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] | 259 |
| 773 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 68 |
| 772 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 112 |
| 771 |
CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여
[2]  | 178 |
| 770 | 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] | 183 |
| 769 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 76 |
| 768 | Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] | 255 |
| 767 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 133 |
| 766 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 88 |
| 765 | FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 | 183 |
| 764 | 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] | 327 |
| 763 | ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] | 364 |
| » | AP plasma 공정 관련 문의 [1] | 204 |
| 761 | Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] | 217 |
| 760 | PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] | 572 |
| 759 | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 592 |
| 758 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 139 |
문제의 원인을 잘 모르겠습니다만, Air 가 가장 걸립니다. Air 자체가 혼합가스로 변인의 원인이 됩니다. 공정 관리를 위해서 Air를 대체할 방법을 찾아 보시면 좋을 것 같은데, 해당 공정에서 가능한 솔루션인지 모르겠습니다. 다음으로는 시편의 전처리 과정입니다. 이점은 물론 잘 제어되었되었을 것으로 기대하지만, 혹여 시편 상태에도 신경을 써 보시기 바랍니다.
아울러 Tool match를 위해서는 회사에서 어떤 데이터도 좋으니, 생성된 N2+Air의 분광스펙트럼 등의 플라즈마 정보를 구할 수 있는 데이터를 얻어서 이를 기반으로 변화 여부를 판단하시면 좋습니다. 복합가스 플라즈마이므로 분광 신호를 관찰할 수 있어야 장비 상태에 대한 기준을 마련하실 수 있으니, OES 등의 분광스펙트럼 데이터, 저희는 장비 플라즈마 데이터라 하는데, 이 DB 확보해서 어떤 변화가 있는가를 확인할 수 있으면 좋을 것 같습니다.