ICP ICP 대기압 플라즈마 분석

2021.11.11 14:47

플라즈마스터 조회 수:720

안녕하세요. 교수님,

 

 

합성을 목적으로 두고 있는 5kW, 13.56MHz RF generator, ICP coil 을 이용해 대기압 플라즈마를 생성할 때 플라즈마 특성을 분석을 하고 싶은데,  일반적으로 많이 사용하는 RGA는 진공 환경에서 작동되는 것으로 알고있습니다. 관련 내용을 홈페이지에서 검색해 보니 2004년도에 교수님께서는 탐침과 OES 등을 이용해 분석하셨다고 쓰여있는데,

 

1. 혹시 그 동안 분석 방법에 대해서 발전된 것이 있는지,

2. 여전히 같은 방법으로 사용하고 계시다면 탐침과 OES로 어떤 것을 사용하였는지 

 

제가 고체 물리 전공이지만 시료 합성을 위해 PECVD 관련 내용을 공부한지 얼마 안돼 관련 전공 지식이 많이 부족한 상태입니다. 추가적으로 해당 모델에 대해서 제가 공부하기 좋은 내용을 추천해 주시면 감사하겠습니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76871
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
657 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1095
656 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 597
655 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1013
654 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 599
653 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1066
652 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1541
651 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 893
650 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2073
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 842
648 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4167
647 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1138
646 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 979
645 plasma 형성 관계 [1] 1548
644 RF matcher와 particle 관계 [2] 2964
643 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3453
642 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4840
641 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2071
640 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1132
639 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1282
638 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3972

Boards


XE Login