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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다.
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Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성
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160 |
DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다.
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RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문
[1] | 100 |
158 |
skin depth에 대한 이해
[1] | 180 |
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Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문
[1] | 126 |
156 |
반사파에 의한 micro arc 질문
[2] | 124 |
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ICP에서의 Self bias 효과
[1] | 206 |
154 |
CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다.
[1] | 160 |
153 |
ICP에서 전자의 가속
[1] | 173 |
152 |
CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여
[2] | 194 |
151 |
파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다
[2] | 205 |
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RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다.
[1] | 96 |
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플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할
[1] | 333 |
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ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유
[1] | 373 |
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Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유
[1] | 631 |
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대기압 플라즈마 문의드립니다
[1] | 258 |
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주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가
[1] | 720 |
144 |
N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문
[1] | 631 |
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반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할.
[1] | 721 |