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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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776 |
ICP에서 전자의 가속
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775 |
내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다.
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774 |
Edge ring의 역할 및 원리 질문
[1] | 253 |
773 |
자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문
[1] | 67 |
772 |
RF generator의 AMP 종류 질문입니다.
[1] | 111 |
771 |
CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여
[2] | 171 |
770 |
파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다
[2] | 180 |
769 |
스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다
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768 |
Etch Plasma 관련 문의 건..
[1] | 253 |
767 |
챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해
[1] | 132 |
766 |
RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다.
[1] | 88 |
765 |
FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석
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764 |
플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할
[1] | 326 |
763 |
ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유
[1] | 361 |
762 |
AP plasma 공정 관련 문의
[1] | 204 |
761 |
Cu migration 방지를 위한 스터디
[1] | 216 |
760 |
PECVD설비 Matcher 아킹 질문
[2] | 570 |
759 |
Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유
[1] | 587 |
758 |
DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지
[1] | 138 |
757 |
CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의
[2] | 414 |