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공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56674
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68038
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90329
738 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 238
737 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 262
736 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 207
735 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 254
734 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 349
733 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 160
732 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 244
731 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 132
730 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 407
729 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 263
728 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 211
727 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] 266
726 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 271
725 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 450
724 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 422
723 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 281
722 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 132
721 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 93
720 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 260
719 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 181
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