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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69190
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93523
56 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 276
55 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 272
54 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 266
53 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 265
52 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 264
51 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 256
50 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 242
49 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 241
48 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 231
47 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 230
46 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 221
45 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [Bactericidal 이해] [2] 216
44 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 210
43 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 209
42 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 203
41 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 186
40 corona model에 대한 질문입니다. [1] 186
39 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 184
38 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 180
37 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 180

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