현재 반도체 장비 업체에 근무하고 있는 엔지니어입니다.

신입사원 발표 과제로 스퍼터링시 기판 온도 계산하는 과정을 직접 변수를 설정하고 구해보라고 주제를 받았습니다.

대충 타겟 온도를 200도, 냉각 장치를 20도라고 가정하고 타겟은 알루미늄 기판은 유리로 가정해봤는데

여러 열역학 이론을 공부해봤지만 아무래도 기판 온도를 계산하는 법 방향성을 못잡겠습니다..

조언주시면 감사합니다!!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102995
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24692
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61455
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73492
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105866
53 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [Rise rate] [1] 521
52 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 499
51 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 485
50 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 484
49 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 478
48 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 477
47 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 475
46 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 472
45 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 471
44 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 467
43 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 463
42 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 459
41 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 455
40 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 450
39 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 448
38 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 440
37 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 434
36 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 432
35 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 432
34 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 429

Boards


XE Login