안녕하세요 현재 반도체 기업에서 종사하고 있는 엔지니어입니다.

Plannar ICP Plasma를 이용한 Etch chamber를 운용중인데 Particle 제어에 대한 연구를 하다보니 ICP Etch chamber에서 Dome(Ceramic cover)의 역할에 대한 궁금증이 생깁니다.

 

먼저저희가 운용하고 있는 chamber의 Ceramic cover의 구조는 Dome형을 가지고 있습니다.

Particle이 생기는 1차적인 원인을 Ceramic cover에서 떨어지는 낙성으로 추측을 하고 있는데 여기서 Material, 구조 관점에서 궁금증이 생깁니다.

 

1. ICP plamsa에서 Ceramic 재질의 Cover를 사용해야하는 이유 

2. S/H와 같이 평형한 구조가 아닌 Dome 형의 구조를 가졌을 때 가지는 장점이 있는지 (ex ICP Plasma를 구현할 때 Chamber의 길이 에 따라 Wafer에 가해지는 Ar 플라즈마 입자의 직진성 향상에 유리한 점이 있다던지...)

 

도움 부탁드립니다.

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [300] 77777
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20738
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57656
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69156
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93429
37 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 179
36 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 178
35 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 169
34 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 167
» ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 165
32 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 161
31 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 160
30 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 159
29 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [상압플라즈마 소스] [1] 159
28 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 158
27 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 154
26 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 141
25 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 139
24 플라즈마 설비에 대한 질문 134
23 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 130
22 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 123
21 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 123
20 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 119
19 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 114
18 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 107

Boards


XE Login