번호 제목 조회 수
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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93631
819 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [1] update 5
818 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [1] update 11
817 인가전압과 ESC의 관계 질문 [1] 33
816 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [2] 53
815 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 80
814 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 58
813 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 48
812 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 45
811 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 84
810 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응] [1] 2325
809 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 158
808 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 186
807 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 91
806 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 137
805 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [표면파의 전파] [1] 61
804 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 145
803 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 166
802 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 83
801 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 181
800 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 181
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