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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69208
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816 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [1] 22
815 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 52
814 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 35
813 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 34
812 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 33
811 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 68
810 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응] [1] 1779
809 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 124
808 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 164
807 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 76
806 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 129
805 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [표면파의 전파] [1] 60
804 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 133
803 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 148
802 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 77
801 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 169
800 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 173
799 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 124
798 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [열전달 방정식 이해] [1] 88
797 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해] [1] 142

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