Deposition Compressive한 Wafer에 대한 질문
2023.06.03 11:56
현재 반도체회사에서 CVD 엔지니어로 근무중에 있습니다.
최근 CuSi 공정에서 지속적으로 Thickness에 문제가 발생하여 Wafer Map을 확인하게 되면 Compressive한 Map으로 관찰되고 있습니다.
Wafer를 Compressive하게 변화하게 만드는 source가 대부분 어떤게 있는지 알 수 있을까요? (Ex. AlF, Plasma, Temp ETC)
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] | 76872 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20273 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57199 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68751 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92694 |
| 737 | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24356 |
| 736 | [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] | 24354 |
| 735 | Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 | 24184 |
| 734 | 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! | 24123 |
| 733 | self Bias voltage | 24078 |
| 732 | plasma and sheath, 플라즈마 크기 | 23987 |
| 731 | 플라즈마 쉬스 | 23948 |
| 730 | Arcing | 23842 |
| 729 | N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] | 23772 |
| 728 | 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. | 23457 |
| 727 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23411 |
| 726 | HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 | 23344 |
| 725 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23269 |
| 724 | DC glow discharge | 23267 |
| 723 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 23146 |
| 722 | No. of antenna coil turns for ICP | 23109 |
| 721 | 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) | 23096 |
| 720 | CCP/ICP , E/H mode | 23043 |
| 719 | 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. | 22950 |
| 718 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22857 |