안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] 78037
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20846
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57737
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69253
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93631
819 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [1] update 5
818 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [1] update 11
817 인가전압과 ESC의 관계 질문 [1] 33
816 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [2] 53
815 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 80
814 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 58
813 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 48
812 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 45
811 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 84
810 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응] [1] 2322
809 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 158
808 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 186
807 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 91
806 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 137
805 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [표면파의 전파] [1] 61
804 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 145
803 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 166
802 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 83
801 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 181
800 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 181

Boards


XE Login