-> 실명으로 작성했다고 생각했는데 닉네임으로 되어있어서 죄송합니다.ㅜㅜ 닉네임 실명으로 수정하였습니다.

 

안녕하세요 

 

현재 원기둥 모양의 얇은 텅스텐을 강염기 KOH로 전기에칭을 진행하고 있습니다.

 

Etching이 완료된 후 SEM으로 이미지를 보면 어떤물질인지 정확히 알 수 없는 수십나노 size의 Contamination들이 표면에

 

붙어있습니다. 

 

현재 플라즈마 장비로 이런 Contamination을 제거하기 위한 방법들을 찾아보고 있는 와중에 일전에도 도움주셔서 이렇게 글을

 

남겼습니다.

 

저희가 사용하는 플라즈마 장비는 진공플라즈마가 아닌 대기압플라즈마를 사용하며, 워낙 얇은 텅스텐을 사용하다보니

 

진공플라즈마에서 피뢰침처럼 Ark 방전이 발생하여 일부로 시료의 damage가 덜한 대기압플라즈마로 Remote 방식을 쓰고 있습니다.

 

현재 대기압플라즈마로 Native oxide제거(연구중), 정전기 제거(주사용)로 사용하고 있는데 추가적으로 Contamination 제거도 진행

 

하려고 합니다.

 

이러한 상황에서 좋은 접근방법이 있을지 여쭤보고 싶습니다.

 

바쁘신 와중에 글 읽어주셔서 감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77228
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68903
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92951
» Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 988
645 plasma 형성 관계 [1] 1583
644 RF matcher와 particle 관계 [2] 3036
643 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3497
642 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4882
641 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2159
640 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1172
639 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1298
638 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3988
637 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1713
636 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1394
635 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1209
634 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1710
633 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 727
632 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2406
631 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1573
630 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 453
629 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1429
628 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2158
627 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] 8795

Boards


XE Login