Others Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다.

2023.10.19 19:41

ejd420 조회 수:312

안녕하십니까 

플라즈마 장비 관련하여 공부하던 중 아킹 관련하여 궁금증이 생겨 문의드립니다.

 

혹시 웨이퍼를 잡아주는 엣지링이나 전극의 소재 특성을 바꾸어 주어 방전 효과를 준다면 아킹을 줄일 수 있을지 문의드립니다. 

 

추가로 엣지링의 전도도와 같은 특성을 변경한다면 쉬스 영역에 변화가 생길지도 문의드립니다.

( 전도도가 높을 때와 낮을 때 쉬스의 변화가 있는지 궁금합니다.)

 

아직은 지식이 많이 부족한 상태입니다. 많은 도움 부탁드립니다. 감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [274] 76811
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20241
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57186
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68736
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92570
757 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 414
756 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [1] 189
755 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 261
754 PECVD Uniformity [1] 532
753 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 653
752 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 251
751 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 385
» Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 312
749 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 719
748 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 402
747 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 769
746 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 760
745 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 478
744 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 319
743 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 292
742 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 512
741 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 395
740 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 499
739 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 698
738 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 555
쓰기
태그

Boards

XE Login