안녕하세요 교수님

저는 C2H2 플라즈마 코팅을 공부하고 있는데요.

실험시에 가스 방출의 문제가 있어서 질문드립니다.

 

먼저, 대상 금속은 크롬강에 경질크롬도금을 한 육면체에 C2H2 가스를 플라즈마

형태로 분사하여 플라즈마 코팅을 하고 있습니다.

그런데, 코팅을 하고 나면 드문드문 하얗게 동그란 형태 또는 액체가 흘러내린

현태로 가스가 배출되어 배출된 면에 코팅이 되어 가지고 해결 워인을 찾고 

있습니다.

 

제가 아는 상식선에서 통상 가스는 경질크롬도금을 할 때 황산욕, 또는 크롬산욕을

하는 과정에서 수소가 크롬도금층에 생성되므로 이것을 약 170℃ 정도로 장시간

열처리 하면 가스가 빠지는 것으로 아는데, 

열처리를 하고 나서 세척후 코팅을 하면 꼭 한두 포인트씩 가스가 나오고 있습니다.

 

그래서 의문이 생겼는데, 이 가스가 경질 크롬 도금에서 나오는 것이 아니라 혹시

C2H2의 성분상의 가스가 이온분리되면서 나타나는 가능이 없는지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77246
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20471
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57377
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68905
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92955
806 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. 18
805 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] 33
804 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] 52
803 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] 29
802 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 83
801 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 96
800 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 70
799 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 61
798 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 85
797 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 130
796 Druyvesteyn Distribution 49
795 플라즈마 식각 커스핑 식각량 63
794 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 125
» C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 39
792 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 55
791 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 137
790 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 136
789 플라즈마 설비에 대한 질문 117
788 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 122
787 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 261

Boards


XE Login