안녕하세요~ 반도체 장비 현업에 일하는 직장인입니다 ㅎㅎ

게시글을 읽어보고 평소 도움을 많이 받아왔습니다. 몇가지 궁금한 내용이 있어 질문글 남겨봅니다

현상을 말씀드리면 플라즈마 식각 장비에서 듀얼 레벨의 RF 펄싱을 사용하는 장비에서 매칭이 제대로 되지 않는 현상입니다.

프리퀀시로 튜닝하는 영역에선 특정 웨이퍼에서 프리퀀시가 적정값을 찾지못하고 헤메는 현상이 있습니다.

이에 장비상 저항계수 문턱값 (Freq tuning Gamma threshold) 이라는 설정값을 바꾸면 정상적으로 장비가 작동하는 것처럼 보입니다.

 

Q1. 저항계수 문턱값이라는 의미가 스미스차트에 어떤식으로 적용 될 수 있을까요?

Q2. 이 값을 감소할 경우 매칭이 더 원활하게 되는데, 저항계수에 대한 한계값을 줄이는것이 RF적으로 어떻게 해석 될 수 있을까요?

Q3. 주파수 튜닝 영역과 관계를 어떤식으로 해석 할 수 있을까요?

 

스미스차트에 대한 지식이 많이 없다보니 두서없이 적게되었습니다.

많은 조언 부탁드립니다.

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