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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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[질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문
[2] | 1276 |
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Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련
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Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다.
[2] | 6075 |
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485 |
EEDF, IEDF, Cross section관련 질문
[1] | 1417 |
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484 |
ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다.
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483 |
matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다.
[3] | 2784 |
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HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요?
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교수님 질문이 있습니다.
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480 |
wafer bias
[1] | 1023 |
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479 |
Group Delay 문의드립니다.
[1] | 1066 |
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478 |
Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문)
[1] | 459 |
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477 |
RPG Cleaning에 관한 질문입니다.
[2] | 1716 |
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리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ
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안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다!
[1] | 1684 |
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PEALD관련 질문
[1] | 32080 |
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473 |
N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다.
[1] | 1824 |
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472 |
dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요?
[1] | 2950 |
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Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다..
[3] | 978 |
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기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다.
[2] | 609 |
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ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다
[2] | 3581 |
