CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련

2020.01.02 18:46

베컴 조회 수:19785

안녕하십니까?


이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.


그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,

그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.


에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.

(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)


확인 및 답변 부탁드립니다.

새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.

감사합니다.





이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76871
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92694
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1072
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3714
515 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 590
514 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10421
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 807
512 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 771
» 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19785
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 847
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3658
508 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1040
507 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1246
506 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 3009
505 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 548
504 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1626
503 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1982
502 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 11457
501 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2354
500 공정플라즈마 [1] 1157
499 임피던스 매칭회로 [1] file 2822
498 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 554
쓰기
태그

Boards

XE Login