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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해]
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RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다.
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ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각]
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810 |
Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length]
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플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응]
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플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가]
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Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator]
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micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장]
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Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포]
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Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [표면파의 전파]
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803 |
CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화]
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802 |
CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching]
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801 |
Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어]
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ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산]
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HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking]
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798 |
PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다.
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797 |
스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [열전달 방정식 이해]
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796 |
공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [Sheath uniformity 이해]
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795 |
Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다.
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Druyvesteyn Distribution
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