공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[303]
| 78037 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20847 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57737 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 69253 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 93631 |
379 |
Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미
[1] | 1061 |
378 |
고진공 만드는방법.
[1] | 1033 |
377 |
PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요
[1] | 447 |
376 |
플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성
[2] | 711 |
375 |
플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다.
[1] | 1352 |
374 |
Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다.
| 484 |
373 |
코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다
[1] | 804 |
372 |
SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유
[1] | 6111 |
371 |
플라즈마 압력에 대하여
[1] | 2763 |
370 |
RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다.
[1] | 3512 |
369 |
활성이온 측정 방법
[1] | 597 |
368 |
rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다.
[1] | 1505 |
367 |
Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
[1] | 2324 |
366 |
ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage
[1] | 1829 |
365 |
sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지
[1] | 2407 |
364 |
Remote Plasma 가 가능한 이온
[1] | 2053 |
363 |
CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
[1] | 1913 |
362 |
DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다.
[1] | 843 |
361 |
안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다.
| 1163 |
360 |
플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요.
[1] | 1375 |