안녕하세요, 김곤호 교수님.

저는 동일기연이라는 Ionizer 제조회사에 근무하고 있습니다.

Ionizer는 코로나 방전의 원리를 이용하여 양이온과 음이온을 발생시키고 그 이온을 대전물체에 전달시켜 정전기를 중화시키는 제품입니다.

최근 적용 공정 중에 일반 Air가 아닌 순수 N2(99.999%)에서의 Ionizer의 동작과 관련하여 난해한 문제가 생겨 이렇게 질문을 드립니다.

현재 일본 경쟁사 측에서 일반 Ionizer는 Air 환경 하에서는 양이온과 음이온이 평행을 이루며 나오지만,

순수 질소환경에서는 그 이온 발생이 평행을 이루지 못하며, 이상 방전을 한다는 주장을 하고 있습니다.

일본 경쟁사의 논리는 하기와 같습니다.

 

1. 전압 인가 시 음극에서 이상방전 발생[첨부 그림파일 참조 부탁드립니다. 1.JPG 파일]

     - +전압 인가에서는 Air와 N2 일때 전압과 전류의 차이가 크지 않으나, -전압 인가에서는 약 -3kV에서 전류가 급격하게 변함.

2. N2환경에서 일반 이오나이저 사용 시 이온 균형이 이상함.[첨부 그림파일 참조 부탁드립니다. 2.JPG 파일]

    - 일반 Air에서는 +이온과 -이온의 발생이 균형을 이루어 0V의 이온 밸런스를 나타냄.

    - N2 환경에서는 이온 밸런스가 -1400V ~ -1600V로 - 측으로 이온밸런스가 편향되는 것으로 나타남.

3. 주기율표 상에서 질소는 음이온이 되지 않음.

4. 질소 환경에서는 전자 Trap이 없어 전자가 빨리 움직일 수 있음.

 

상기의 경쟁사 주장에 대하여 확인할 자료나 논문을 찾아보았으나, 찾을 수가 없어 이렇게 교수님께 질의를 드리게 되었습니다.

상기 내용에 대하여 조언을 꼭 부탁드리겠습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102887
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61425
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73479
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105839
313 RPSC 관련 질문입니다. [플라즈마 발생과 쉬스 형성, 벽면 및 시료 demage] [2] 5096
312 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [공정 용법] [1] 18696
311 플라즈마 내에서의 현상 [Neo-classical transport theory] [1] 1618
310 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [High Power RFG] [2] 7999
309 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [Breakdown voltage 및 이온화 에너지] [1] 2288
308 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [쉬스 전위 및 플라즈마 세정] [1] 12472
307 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [플라즈마 유전상수] [1] 4924
306 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [글로우 방전 및 아크 방전] [1] 1188
305 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [Wave guide 및 matcher position 변화] [1] 2292
304 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [표면 전위 생성 및 방전] [3] 3388
303 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [장치 구조에 따른 공간 분포] [2] 4904
302 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [Wave guide 설계 및 matcher 설계] [1] 1556
301 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [Excitation transfer 반응과 방사천이율] [1] 2201
300 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [Radio-Frequency Plasma] [1] 1960
299 DC스퍼터링과 RF 스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [플라즈마 생성과 Sputtering] [2] 4203
298 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [DC 글로우 방전 및 Breakdown] [1] 3547
297 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. 9932
296 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 15483
295 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [Plasma actuator와 DBD 방법] [3] 1641
294 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [N2 Ionizer 이온 및 중성 입자 해석] [1] 2226

Boards


XE Login