안녕하십니까, 반도체 공정에 대하여 공부 중입니다. 

 

공부 시 몇 가지 질문 사항이 있어서 문의 드립니다.

 

1. Depoition 공정과 같은 Process 공정 시 SiH4 + N2O(O2) 등의 gas 사용하여 바로 공정을 진행하는데, 

   Remote Plasma Source를 이용한 NF3 Cleaning Prcoess 에서는 왜 Ar (Innert gas)를 이용해야만 Plasma 방전이 되는 건가요?

 

2.  물론 Deposition 공정 시 공정 조건을 위하여, Ar gas와 같은 불활성 기체를 쓰지만, Plasma 방전을 목적으로 쓰지는 않는데, 

    RPS의 경우 왜 NF3 gas만 이용 시 Plasma 방전이 안되는 것인가요?

 

물론 Deposition 공정 장비는 13.56MHz를 사용하고, RPS의 경우 400kHz를 사용합니다. 

 

혹시 이러한 주파수 차이와 연관이 있는 것인가요? 아니면 Gas의 결합 에너지의 차이와 연관이 있는 것인가요?

 

마지막으로 RPS의 Plasma 방전이 잘되게 하려면 어떠한 방법이 있을지도 함께 답변해주시면 감사하겠습니다.

 

 

감사합니다!

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77294
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20491
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57410
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68940
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92987
290 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1377
289 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1373
288 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1352
287 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1351
286 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1344
285 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1335
284 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1328
283 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1323
282 플라즈마 기초입니다 [1] 1302
281 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1300
280 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1300
279 플라즈마 챔버 [2] 1297
278 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1288
» Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1275
276 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1275
275 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1263
274 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1258
273 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1248
272 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1239
271 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1237

Boards


XE Login