안녕하십니까

플라즈마 발생을 억제시킬수 있는 방법은 무엇인지 어쭙고자 글을 올리게 되었습니다.

고주파 유도가열(3MHz)을 이용하여 실리콘(Si)을 가열하여 아르곤 분위기에서 실리콘 결정성장을 시키고 있습니다.

(코일은 팬케이크 형태임.)결정 성장을 시킬때 가끔씩 코일에 플라즈마가 발생하며,이로인해 코일arcing이 가끔 발생하여 코일이

소손되는것 같습니다.

플라즈마 발생을 억제시킬수 있는 방법이 없을지 문의 드립니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77258
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20473
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57383
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68909
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92959
267 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6376
266 RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] 9032
265 Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] 8943
264 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6504
263 VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] 55016
262 수중플라즈마에 대해 [1] 8780
261 [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] 12825
260 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] 8162
259 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 10050
258 고온 플라즈마 관련 8091
257 안녕하세요 교수님. [1] 9069
256 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8585
255 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] 13082
254 MFP에 대해서.. [1] 7840
253 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6575
252 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7715
251 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] 10338
» 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 8133
249 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24430
248 Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? 15901

Boards


XE Login