안녕하세요 

현재 반도체관련 회사에 인턴중입니다. 

 

다름아니라 스퍼터 내부 플라즈마 주파수를 이론상 예측하려고하는데요,
electron density 혹은 power나 voltage로 계산할 수 있는 수식이 있나 여쭤봅니다.

 

책가방정도의 크기의 챔버에 100W정도 흘릴 예정입니다.

혹시 비슷한 상황에서 플라즈마 주파수를 측정해본 적 있으시다면 조언 부탁드립니다

 

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77297
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20493
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57412
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68942
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92988
270 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1224
269 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1215
268 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1212
267 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1206
266 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1192
265 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1190
264 전자 온도 구하기 [1] file 1189
263 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1188
262 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1186
261 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1180
260 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1179
259 공정플라즈마 [1] 1175
258 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1175
257 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1174
256 wafer bias [1] 1164
255 Group Delay 문의드립니다. [1] 1161
» 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1158
253 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1155
252 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1155
251 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1152

Boards


XE Login