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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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플라즈마 밀도와 라디칼 [플라즈마 충돌 반응]
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778 |
Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant]
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777 |
플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성]
[1] | 276 |
776 |
ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해]
[1] | 226 |
775 |
내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링]
[1] | 92 |
774 |
Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어]
[1] | 539 |
773 |
자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [부착물의 흡착 관리]
[1] | 106 |
772 |
RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power]
[1] | 167 |
771 |
CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정]
[2] | 277 |
770 |
파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [Matcher 기능]
[2] | 358 |
769 |
스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다
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768 |
Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수]
[1] | 329 |
767 |
챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식]
[1] | 183 |
766 |
RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭]
[1] | 118 |
765 |
FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석
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764 |
플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [전자 충돌 현상 및 입자 충돌 현상]
[1] | 375 |
763 |
ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [플라즈마 생성 반응]
[1] | 444 |
762 |
AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석]
[1] | 232 |
761 |
Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료]
[1] | 280 |
760 |
PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [RF 전원과 matcher]
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