안녕하세요. ICP 타입 Dry Etcher 장비사에서 근무하는 엔지니어입니다.

 

효율적이고 안정적인 매칭을 위해 Matcher 의 Matching Network 구성을 변경시키곤 합니다.

 

여기서 궁금한 점이 생겨 교수님께 문의 드립니다.

 

1. 플라즈마 안정화시 [기존 Matcher + Chamber] 의 임피던스가 8+j5 라고 가정했을때,
 Matcher 의 L 또는 C의 H/W를 변경시켜도 [Matcher + Chamber] 가 동일하게 8+j5 값을 갖도록 Tune / Load 가 움직이는지

 아니면 기존과 다른 [Matcher + Chamber] 임피던스 값을 갖게 되는지 궁금합니다.
 ※ 변경 전/후 모두 플라즈마는 안정적

 

2. Matcher Matching Network 구성 변화가 임피던스 범위 변동 외에 플라즈마 방전시 챔버 임피던스에 영향에 주는지
 ※ 오직 Matcher 구성만 변경된것으로 가정

 

이론적으로 어떻게 접근/해석해야하는지 도움 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77224
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68903
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92950
766 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 102
765 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 206
764 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 351
763 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 395
762 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 218
761 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 252
760 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 614
759 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 750
758 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 151
757 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 453
756 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [2] 202
755 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 283
754 PECVD Uniformity [1] 600
753 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 698
752 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 274
751 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 449
750 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 337
749 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 792
748 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 432
747 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 856

Boards


XE Login