Plasma in general Co-relation between RF Forward Power and Vpp [RF ground]

2022.04.27 17:35

Akki 조회 수:873

Hello,

I am working on a ALD (Atomic layer deposition) product wherein we are processing multiple wafers in the single reactor. 

When we supply RF power to one of the reactor (i.e. REACTOR 1), the other reactor (REACTOR 2) beside reactor 1 is showing high Vpp value. We are not supplying RF power to reactor 2. (Please note reactor 1 & reactor 2 share the gas flow volume and are not fully isolated)
Why would this be happening ? 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102880
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24689
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61422
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73479
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105836
793 플라즈마 식각 커스핑 식각량 226
792 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 470
791 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 121
790 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown] [1] 426
789 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 450
788 플라즈마 설비에 대한 질문 301
787 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 498
786 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [Druyvesteyn distribution 이해] [1] 859
785 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 828
784 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 475
783 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 383
782 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 821
781 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 660
780 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 536
779 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 405
778 플라즈마 밀도와 라디칼 [플라즈마 충돌 반응] [1] 1037
777 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 733
776 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 593
775 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 438
774 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링] [1] 343
쓰기
태그

Boards

XE Login