Others Full Face Erosion 관련 질문

2008.12.16 08:24

이태성 조회 수:19461 추천:193

안녕하세요.
Full face erosion 관련 자료를 찾던 중 이곳까지 오게되었습니다. 인터넷검색으로는 자료를 찾을수가 없어서
이렇게 글을 올립니다.

high deposition rate가능, long time process가능, 간단한 process control
등의 장점은 대충 알고 있으나, 어떠한 구조인지, 어떠한 원리로 위의 장점들이 가능한지,
단점은 무엇인지, 기존 sputter와 차이점 등등 FFE에 대한 자세한 내용을 알고싶습니다.

답변해 주시면 정말 많은 도움이 될 것같습니다.
자료를 올려주셔도 괜찮습니다 ^^;;;
사회초년생으로서 배울것이 너무 많은것 같네요.
염치없지만 부탁드립니다 ㅠ.ㅠ      

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76750
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20217
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57170
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68707
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92309
190 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24773
189 전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [1] 18741
188 궁금해서요 16316
187 PM을 한번 하시죠 19729
186 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] file 20382
185 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 22769
184 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] 19214
» Full Face Erosion 관련 질문 [2] 19461
182 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26470
181 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [1] 21513
180 RF에 대하여... 32012
179 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24174
178 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24987
177 RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] 18875
176 RF plasma에 대해서 질문드립니다. [2] 20963
175 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22852
174 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22579
173 glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 21753
172 self bias (rf 전압 강하) 26716
171 궁금합니다 [1] 16177

Boards


XE Login