Etch RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다.

2023.05.13 12:07

hjs 조회 수:360

안녕하세요 학부과정 진행중인 황준성입니다.

RIE장비로 SiO2 웨이퍼를 식각하려고 하는데 이때 발생하는 가스형태의 공정부산물을 측정하려고 하는데 사전에 주입가스를 통해서 발생할 수 있는 가스를 계산하여 예측할 수 있는 방법이 있을까요?

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76850
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20257
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57192
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68746
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92607
77 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 426
76 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 423
75 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 414
74 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 408
73 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 405
72 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 404
71 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 403
70 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 396
69 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 392
68 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 390
67 standing wave effect, skin effect 원리 [1] 388
66 plasma modeling 관련 질문 [1] 387
65 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 376
64 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 368
63 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 364
62 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 361
» RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 360
60 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 355
59 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 352
58 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 342
쓰기
태그

Boards

XE Login