DC glow discharge DC glow discharge

2004.06.19 16:38

관리자 조회 수:23420 추천:269

DC glow는 음극과(negative electrode) 양극(positive electrode)의 전극에 DC 전압을 인가하여 형성된 전기장에서 가속된 전자들이 공간내 기체 분자나 원자들을 이온화 하여 플라즈마가 형성되게 됩니다. 공간 내에 플라즈마가 형성되면 전자들은 쉽게 양 전극(positive electrode)으로 흘러들어 가게 되고 이온은 질량이 상대적으로 무거워서 음 전극으로 쉽게 흘러들어 가게 되지 않습니다. 따라서 음극과 양 전극 근방에서 일어나는 상황이 서로 대칭적이지 않습니다. 결국 음극 근방에서 형성된 전위 차가 커서 큰 전기장이 형성되고 이 결과로 이온이 가속되게 되는데 이때 음극에 형성괸 전위분포를 음극 전압강하라 합니다. 이 현상은 음극에 형성된 sheath현상으로 이해 할 수 있으며 이 곳은 플라즈마 반응기 내에서 가장 전기장의 세기가 강한 곳으로 전기장의 방향은 음극판을 향합니다. 이 전기장으로부터 가속된 높은 에너지를 가진 이온이 음극 판에 입사하고 음극 표면과 충돌해서 방출되는 전자, 즉 이차전자들은 이 전기장으로부터 가속되면서 반응기 중심부로 날아가게 되고 이들은 다시 공간 내 이온화 반응에 기여함으로써 플라즈마를 유지하는데 매우 중요한 역할을 하게 됩니다. 따라서 음극에서의 전압강하는 플라즈마 유지에 매우 중요한 역할을 합니다. 이에 반해 양극쪽에서는 미약한 전압강하 부분이 있기는 합니다만 위에서 설명한 바와 같이 이 크기는 크지 않기 때문에 중요하게 다루지 않습니다. DC 방전에서 음극 전압강하, 음극 전압강하영역의 거리, 음극의 재질이 매우 중요한 인자임을 알수 있습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [332] 102999
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24693
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61456
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73494
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105867
53 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [Rise rate] [1] 521
52 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 499
51 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 486
50 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 484
49 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 478
48 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 477
47 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 475
46 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 472
45 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 471
44 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 467
43 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 463
42 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 459
41 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 455
40 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 450
39 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 448
38 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 440
37 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 434
36 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 432
35 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 432
34 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 429

Boards


XE Login