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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73480
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105841
53 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [Rise rate] [1] 521
52 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 498
51 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 484
50 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 482
49 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 477
48 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 475
47 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 475
46 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 472
45 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 470
44 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 467
43 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 461
42 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 459
41 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 450
40 HF와 LF중 LF REFLECT POWER가 커지는 현상에 대해서 도움이 필요합니다. [2] 448
39 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 448
38 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 438
37 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 434
36 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 432
35 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 432
34 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 429
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