안녕하세요, 플라즈마 관련하여 공부하고 있는 대학원생입니다.

 

플라즈마 진단 장비인 OES에 대해 몇가지 궁금증이 있어 글을 남깁니다.

 

OES로 실시간 플라즈마 공정 모니터링을 진행시 spectrum data가 검출되는데,

해당 spectrum data 파장영역에서 검출되는 원소를 찾아 정성분석이 가능하지만,

반면 정확한 정량분석은 어떻게 이루어 지는지 원리를 알고 싶습니다.

 

OES 정량분석을 공부하다가, 다른 논문들을 통해 actinometry으로 OES 정량분석을 진행하는걸 확인하였는데,

actinometry 방법 사용 이유, 원리 등을 자세하게 알고 싶습니다. 

 

또한 플라즈마를 이용한 건식식각 공정 중 OES를 이용하여 etch chemistry를 알 수 있는 방법이 있다면, 어떠한게 있을까요?

 

질문방의 여러가지 다양한 질문과 답변을 통해 많은 도움을 받고 있습니다.

감사합니다.

 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103321
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24716
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61526
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73520
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105952
754 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 1241
753 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [Glow discharge process 이해] [1] 1033
752 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 481
751 standing wave effect, skin effect 원리 [Maxwell 방정식 이해] [1] 957
750 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [DC breakdown 및 sheath] [1] 580
749 RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택] [1] 1416
748 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 610
747 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge] [1] 1441
746 RF Frequency 가변과 Forward Power의 상관관계 [임피던스 매칭] [2] 1668
745 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION 간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [플라즈마 충돌 반응] [1] 854
744 RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability] [1] 636
743 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [RF matcher noise] [1] 591
742 안녕하세요 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [E x B drift] [1] file 769
741 CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선] [1] file 682
740 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [전자 가열 방법 및 생산성에 따른 구별] [1] 879
739 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [ICP, CCP 플라즈마 heating] [1] 1245
738 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 1079
737 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [방전 기전] [1] 839
736 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [OES 진단과 sputter yield] [1] file 592
735 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다. [DC 바이어스 전압과 쉬스 전기장] [1] 602

Boards


XE Login