OES OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법
2022.10.31 18:24
안녕하십니까, 플라즈마 관련하여 공부하고 있으며 디스플레이 업체에 근무하고있습니다.
몇 가지 궁금증이 있어서 글을 남기게 되었습니다.
OES의 경우 Plasma 정성적 특성을 계측하기 위하여 주로 사용된다고 알고 있습니다. 실제로 Gas 트랜드 및 Chamber 분위기 등의 변화를
계측할때 사용하고 있습니다.
그런데, OES를 가지고 정량적 측정을 한다는 이야기를 들어서 여쭤보려합니다.
(RGA를 이용한 방법은 몇 가지 논문을 확인하였으나, OES는 생소합니다.)
1. 정량적 측정을 하는 방식이 궁금합니다. (혹시 추천해줄 논문 or 자료가 있으시면 읽어보겠습니다.)
2. 현재 OES를 사용하여, Chamber 내 H(수소) 함량을 알려고 하는데 가능한지 여쭤보려합니다. (Ar 가스 or N2 가스가 아닙니다.)
3. 만약 가능하다면, 참고 할만한 자료가 있으면 추천 부탁드립니다.
*PECVD Deposition 공정에서 OES를 통한 H(수소) 함량에 따른 Wafer 막질의 변화를 확인하기 위하여 진행하려합니다.
여러가지 다양한 질문과 답변을 통하여 자료를 찾는데 많은 도움을 받고 있습니다.
감사합니다.
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수소 또는 Ar 단원자 진단을 먼저 경험하시기를 추천합니다. 수소 관련해서는 전통적인 방법들이 많이 소개가 되어 있고, 아르곤에 대해서는 Boffard 연구와 X. Zhu 및 저희 연구실 논문 등을 참고하시면서 경험을 쌓아 가시면 좋을 것 같습니다.
먼저 사용하시는 OES 장치의 calibration 도 추천합니다.
이 경험을 기반으로 현 상태에서 OES full spectrum 에서 수소 신호를 찾아 보시고, 공정 조건에 따라서 변화가 큰 신호를 선택해서
자료로 만들어 보세요. peak 값의 변동을 기준으로 공정 결과 (막질) 분석 값을 모아 보시기 바랍니다. 이 변화는 기본적으로 플라즈마 밀도의 변화를 의미할 것입니다. 아마도 플라즈마 온도 변화가 크지 않다는 가정이고, 이 가정은 유지가 될 것 같습니다.
좋은 결과 얻어 보시길 바랍니다.