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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68521
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91227
651 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 830
650 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2008
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 799
648 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4081
647 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1074
646 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 944
645 plasma 형성 관계 [1] 1417
644 RF matcher와 particle 관계 [2] 2746
643 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3316
642 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4676
641 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 1791
640 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1055
639 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1206
638 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3931
637 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1565
636 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1292
635 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1104
634 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1515
633 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 688
632 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2218

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