Matcher RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다.
2022.04.19 11:40
안녕하세요
측정장비 분야에서 일하고 있는 연구 엔지니어입니다.
ICP(13.56MHz) 이용해 플라즈마 띄우고 Standard L-type Matching Network 사용중입니다.
Matcher에 대해 어느정도 이론은 이해했다고 생각했는데 현실은 다르네요.
안테나와 Matcher 間 거리, 안테나의 길이, Clamp로 엮는 위치 등등 모든게 변수가 되는 것 같습니다...
이러한 이유로 Plasma를 띄운 후 Current 값이 계속해서 안정적이지 못하고 뛰는 것 같은데 혹시 이러한 값들도 영향을 미치나요?
혹시 최선의 값을 알고 계신다면 알려주시면 진심으로 감사하겠습니다.
바쁘신 연구 와중에도 항상 저희에게 도움을 주셔서 감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [303] | 78037 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20846 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57737 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69253 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 93631 |
699 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 1340 |
698 | 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] | 405 |
697 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 1570 |
696 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 631 |
695 | 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] | 182 |
694 | RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] | 972 |
693 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 665 |
692 |
진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문
[1] ![]() | 652 |
691 | OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] | 29040 |
690 | plasma modeling 관련 질문 [1] | 409 |
689 | 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] | 792 |
688 | O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. | 777 |
687 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1177 |
686 | Ta deposition시 DC Source Sputtreing | 2376 |
685 | 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] | 1223 |
684 | OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] | 851 |
683 | Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] | 1084 |
682 |
RF Sputtering Target Issue
[2] ![]() | 677 |
681 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 659 |
680 | PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] | 2056 |
최선의 설계는 전기공학적인 설계 방법이 있을 것 같습니다만, 저는 경험이 없어 즉답을 드리기 힘듧니다. 다만 제 실험에서는 물리적으로 잘 결합이 되고, 접지에 각별하게 신경을 써야 한다는 정도만 알고 있습니다. 특히 clamp로 묶는 일 들은 매우 신중하셔야 할 것 같고요. RF는 DC와 매우 다르게 다루어야 하는 점 꼭 신경쓰시기 바랍니다.