Chamber Impedance Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다
2022.07.24 20:09
안녕하세요 디스플레이 근무 중인 사람입니다
질문
1.Chamber 환경 변화시 VPP 값의 변화
EX) 주기성 Parts 절연체 감소로 인한 Chamber 변동 시
2. 압력과 VPP의 상관관계
이 두가지 질문을 드립니다
제가 많이 부족하여 이렇게 쉬운것도
짊질문을 한점 양해부탁드립니다ㅜㅜ
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [272] | 76805 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20240 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57185 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68736 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92560 |
672 | Polymer Temp Etch [1] | 669 |
671 | CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] | 1007 |
670 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 477 |
669 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1410 |
668 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1245 |
667 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 449 |
666 | 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] | 813 |
» | Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] | 887 |
664 | RF 파워서플라이 매칭 문제 | 821 |
663 | CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] | 5005 |
662 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1247 |
661 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 690 |
660 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 607 |
659 | N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] | 1453 |
658 | 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] | 485 |
657 | etch defect 관련 질문드립니다 [1] | 1083 |
656 | Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] | 594 |
655 | RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] | 1010 |
654 | 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] | 597 |
653 | RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] | 1061 |