현재 BTO 박막을 CF4/Ar gas 를 이용하여 플라즈마 식각을 진행하고 있습니다. 

OES 분석을 위해 CF3 파장이 필요한데 제가 가지고 있는 data에 없어서 이렇게 문의 드립니다.

혹시 OES 분석이나 실험 분석에 사용했던 CF3의 파장이 있으시다면 알려주실수 있으신가요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76694
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68681
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92219
647 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1114
646 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 970
645 plasma 형성 관계 [1] 1503
644 RF matcher와 particle 관계 [2] 2906
643 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3403
642 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4793
641 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 1975
640 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1107
639 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1263
638 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3963
637 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1670
636 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1342
635 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1158
634 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1602
633 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 712
632 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 2307
631 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1507
630 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 450
629 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1303
628 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 1997

Boards


XE Login