ESC ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다.
2021.08.19 14:08
안녕하세요 반도체 관련 현직자 입니다.
ESC Dechuck과 관련해서 Bipolar, Coulombic ESC에서 Back면이 Polished 된 Wafer로 SEA 진행할 경우
Discharge가 제대로 되지 않아 Dechuck을 하지 못하는 Error가 다발하는 경우가 있었는데
Back 면이 Polished 되지 않은, 즉 back면이 Rough한 Wafer로 SEA을 진행하니 Dechuck이 안되던 Error가 말끔히 사라졌습니다.
구글링을 해서 겨우겨우 관련 논문을 찾아서 보다보니
ESC의 MESA부분은 Wafer가 닿게되고 MESA가 없는부분은 Wafer가 닿지 않을텐데
이렇게 MEASA에 닿는부분이 F(contact)이고 닿지 않는부분을 F(Non-Contact)이라고 할때
F(remain) = F(Contact) + F(Non-contact) 이더라구요....
그래서 Non-Contact을 줄이긴 힘들거같고.... 결국은 Non Polished Wafer를 사용하게되면 MESA랑 닿게되는 면적이 줄어들어서
F(Contact)이 작아지게되고 결국 Remain Force가 작아져서 Dechuck이 더 잘되는 mechanism이 맞을까요...??
Chuck, Dechuck System에 대해서 전문적인 지식이 부족하여 관련 지식을 나눠주시면 정말 감사하겠습니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] | 76882 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20277 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57199 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68755 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92710 |
638 | 기중방전에서 궁금한것이 | 19164 |
637 | 플라즈마를 손으로 만질 수는 없나요?? | 19112 |
636 | AMS진단에 대하여 궁금합니다 | 19052 |
635 | 플라즈마에 관하여... | 18963 |
634 | RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [1] | 18879 |
633 | 등온플라즈마와 비등온플라즈마 | 18768 |
632 | 플라즈마의 환경이용 | 18766 |
631 | 전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [1] | 18760 |
630 | 플라즈마진단법엔 어떤것이? | 18734 |
629 | 주변의 플라즈마에 대하여 | 18654 |
628 | 핵융합 발전에서는 폐기물이 않나오는 .... | 18568 |
627 | 플라즈마을 막는 옷의 소재는? | 18553 |
626 | surface wave plasma 에 대해서 [1] | 18552 |
625 | 최적의 펌프는? | 18546 |
624 | 형광등에서 일어나는 물리적인 현상 | 18537 |
623 | RF compensate probe | 18452 |
622 | 물리적인 sputterting | 18375 |
621 | 질문 있습니다. [1] | 18368 |
620 | Faraday shielding & Screening effect | 18360 |
619 | 실생활에서 사용되는 플라즈마 | 18320 |
ESC 표면도 POLISHING된 표면인가요??
ESC 표면도 돌기 Embossing형상으로 되어있지않나요?