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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요
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잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다.
[1] | 1628 |
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유도결합 플라즈마 소스 질문!!!?
[2] | 1650 |
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415 |
etching에 관한 질문입니다.
[1] | 1673 |
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414 |
3 stub 정합에 대해 궁금합니다.
[1] | 1676 |
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413 |
플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 1681 |
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임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[4] | 1705 |
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411 |
Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
[1] | 1718 |
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chamber impedance
[1] | 1760 |
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409 |
13.56MHz resonator 해석 관련 문의
[1] | 1774 |
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408 |
교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다.
[2] | 1774 |
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407 |
PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성....
[1] | 1779 |
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406 |
RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다.
[2] | 1796 |
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405 |
가입인사드립니다.
[1] | 1810 |
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404 |
플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 1819 |
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403 |
plasma etching을 관련 문의드립니다.
[1] | 1847 |
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402 |
CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다
[1] | 1870 |
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401 |
RPS를 이용한 SIO2 에칭
[1] | 1899 |
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400 |
Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련.
[1] | 1947 |
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399 |
PECVD Precursor 별 Arcing 원인
[1] | 1967 |
