ICP Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여

2018.12.21 07:56

정용진 조회 수:1661

안녕하세요, dusty 플라즈마를 활용해서 나노소재를 만드는 연구를 하는 한 학생입니다.


플라즈마 electron density 를 증가하고자 CCP 에서 ICP 로 바꿔서 실험을 진행하고 있는데요,


Ar gas 만 흘럿을때는 매우 아름다운 ICP 효과를 얻을 수 있는데,

O2 gas 를 넣는 순간 ICP 효과가 사라집니다.


튜브 사이즈는 직경 2인치이고, power 는 200 W 정도 인가하였는데 

매칭박스의 매칭이 잘 되지는 않습니다. 


주로 CCP 만 사용하다가 ICP 를 사용하게 되어 매칭박스에 관해 지식이 짧은데,

혹시 ICP 를 사용할때는 이 모드에 맞게 매칭박스를 바꾸어야 하는지요?


감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] 76738
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20206
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68702
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92286
489 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1463
488 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1464
487 charge effect에 대해 [2] 1465
486 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1488
485 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1499
484 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1507
483 plasma 형성 관계 [1] 1517
482 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1517
481 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1518
480 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1533
479 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1562
478 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1599
477 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1602
476 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1607
475 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1609
474 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1646
473 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1661
» Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1661
471 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1670
470 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1677
쓰기
태그

Boards

XE Login