Etch 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing]
2023.06.16 16:51
안녕하세요. RIE 모니터링 관련해서 졸업 프로젝트 진행중인 학부 4학년 정보경입니다.
다름이 아니라 RIE 장비를 거친 후의 부산물 양을 알고 싶어서 여쭈어 봅니다.
주입가스는 CF4,O2(19sccm , 1 sccm)이며 식각될 물질은 SiO2입니다.
4인치 웨이퍼에 증착된 1나노미터의 산화막이 모두 식각되었을 시 SiF4의 양을 계산할 수 있을까요?
SiO2+4F->SiF4 (g) +2O
전공에서 다루는 부분이 아니라 난항을 겪고 있는 중입니다.
답변 주시면 감사하겠습니다.
이미 반응식으로 부터 부산물 생성량을 추론해 볼 수 있을 것 같은데, 자신있게 해 보세요.
참고자료로는 Chap 15. section 3, "Principles of Plasma Discharges and Materials Processing" (M.A. Lieberman and A.J. Lichtenberg) 참고하면 좋습니다. 훌륭한 졸업 논문이 되겠군요.