안녕하세요 

항상 좋은 정보와 친절한 설명에 감사드리고 있는 회원입니다.

저는 물리 학사 / 신소재 석사 과정 중 플라즈마 이온 농도 측정, 플라즈마 파워에 따른 막질 분석 등

플라즈마 관련 논문을 작성하였고, 졸업 후에도 계속 플라즈마 관련 엔지니어로 근무 중에 있습니다.

오늘 플라즈마 관련, 한 가지 문의드리고자, 이렇게 찾아뵙게 되었습니다.

 

Si precursor (TEOS)와 O2 Plasma를 이용한 CVD 반응을 통해 SiO2를 증착하는 Process인데,

문제는 최초 Plasma에 의해 Ion, Radical이 생성된 위치에서 너무 멀리 떨어진 위치에서도 정규적인 SiO2 deposition 반응이 

일어나는 것처럼 보인다는 것입니다.

좀 더 자세히 말씀드리자면, 플라즈마가 발생되는 위치에서 fore-line을 통해 연결된 펌프나 스크러버 내에서 

위에서 말씀드린 정규적인 SiO2가 확인이 되고 있습니다.

공정 챔버에서 미 반응되어 남게되는 소스가 배관을 통해 밖으로 out될 수는 있다고 생각하나,

그 멀리 떨어진 외부에서 정규적인 SiO2 deposition 반응이 일어난다는게 쉽게 이해가 가지 않습니다.

일단 플라즈마 소스에서 그 멀리 떨어져있다는 위치의 파우더를 XPS 분석 진행해 봤을 때, 

Pure한 SiO2 peak만 확인이 되고 있습니다. 다른 위치에서는 SiO2가 있다 해도, 다른 성분들과 결합된 채로 존재하나,

플라즈마 소스에서 가장 멀리 있는 그 위치에서만은 SiO2만 분석됩니다. 

XPS 외에도 다른 근거도 있습니다만, 업무와 연관된 부분이라 공개가 어렵습니다.

 

하여 문의드리고 싶은 것은 플라즈마에 의해 발생된 이온이나 래디컬의 이동 거리에 따른 이온 또는 래디컬의의 농도 연구,

혹은 이동 거리에 따른 SiO2 등 증착 상태 연구에 관한 논문이나 자료 Reference 입니다.

현상이 너무 괴이하여 감히 원인 등에 대해 문의드리기가 어려울 것 같고, 대신 관련성이 깊지 않아도 좋으니,

연관된 논문, 특허 혹은 기타 자료에 대해 생각 나시는게 있으시다면 말씀을 부탁드리고자 합니다.

 

긴 글 읽어주셔서 감사 드립니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [333] 103261
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24706
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61513
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73516
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105933
754 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메커니즘에 대해 질문하고 싶습니다. [플라즈마-화학-표면 반응 모델] [1] 631
753 RIE Gas 질문 하나 드려도 될까요? [Sheath instability] [1] 635
752 Etch Plasma 관련 문의 건.. [RF 주파수와 플라즈마 주파수] [1] 638
751 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [HV probe 전압 측정] [2] file 640
750 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 642
749 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [Materials processing] [1] 647
748 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field] [1] 650
747 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [플라즈마 생성과 가열] [2] 650
746 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 650
745 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 656
744 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 663
743 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [공정 조절과 CF4 계열 플라즈마] [1] 669
742 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [Pd condition과 PDP] [1] 677
741 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [방전과 에폭시] [1] file 677
740 CURRENT PATH로 인한 아킹 [RF 접지 면접촉 개선] [1] file 679
739 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [상압 플라즈마 방전 메커니즘과 특성] [1] 680
738 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [Plasma breakdown과 살균 과정] [1] file 683
737 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [플라즈마 생성 조건 및 성질] [1] 698
736 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [플라즈마 생성 반응] [1] 698
735 (PAP)plasma absorption prove 관련 질문 [PAP 진단법] [1] 699

Boards


XE Login