Others ECR plasma 장비관련 질문입니다.

2010.10.18 17:35

최선진 조회 수:34959 추천:78

안녕하세요, 저는 한국과학기술원 석사과정에 재학중인 최선진입니다.
홈페이지에서 plama를 이용한 흥미로운 연구를 하고 있는것 잘 살펴 보았습니다.

다름이 아니라 장비에 관하여 궁금한 점이 있어서, 메일로 질문을 드릴려다가 이곳에 남깁니다.
ECR(electron cyclotron resonance) plama에 관한 것인데요, 혹시 이장비를 이용하여 oxidation을 할 수 있을까요?
특히, 금속 물질을 oxidation하기 위함입니다.

답변부탁드립니다.
점점 차가워지는 날씨에 감기조심하십시오.
감사합니다.

최선진 올림.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76791
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20229
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57178
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68723
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92449
791 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. 16
790 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 35
789 플라즈마 설비에 대한 질문 46
788 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 57
787 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 63
786 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 66
785 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 67
784 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 76
783 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 81
782 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 95
781 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 97
780 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 108
779 Microwave & RF Plasma [1] 124
778 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 126
777 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 126
776 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 134
775 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 138
774 ICP에서 전자의 가속 [1] 147
773 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 151
772 skin depth에 대한 이해 [1] 152

Boards


XE Login