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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68777
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580 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] file 1022
579 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 1023
578 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 1029
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574 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1050
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571 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1062
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569 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1071
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565 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1092
564 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1100
563 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1101
562 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1105
561 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1123

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