안녕하십니까, 교수님
저는 국내 디스플레이 장비 업체에서 근무 중인 직장인 김준현이라고 합니다.
항상 좋은 답변 해주셔서 업무 진행에 있어 많은 도움을 받고 있습니다.

 

최근 arcing 관련 내용을 공부 중에 있는데요, 궁금한 점이 생겨 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

질문들은 하기와 같습니다. 

 

1. arcing 발생 방지에 있어, ground가 중요한 이유가 무엇인가요...?

 

2. 벽표면 혹은 전극 표면 등에 쌓인 부도체 물질, particle 등이 acring 발생에 어떤 영향을 주는지 그 메카니즘에 관해 알고 싶습니다.    

 

3. 특정 조건에서 기판 지지체 하부에 잔류 플라즈마 발생을 확인할 수 있었는데요, 기판지지체 하부에는 RF Power가 직접적으로 가해지지 않는데 왜 플라즈마가 유지/생성될 수 있는지 궁금합니다. 

 

이상입니다.

 

감사합니다.
 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [271] 76791
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20229
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57178
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68723
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92466
531 플라즈마 챔버 [2] 1247
530 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1273
529 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1274
528 플라즈마 기초입니다 [1] 1286
527 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1294
526 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1301
525 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1305
524 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1318
523 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1320
522 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1321
521 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1328
520 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1331
519 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1335
518 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1336
517 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1350
516 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1351
515 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1355
» Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1359
513 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] 1376
512 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1377

Boards


XE Login