Etch 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다.
2016.07.11 17:15
안녕하세요.
지난 서울대에서 기술교류회에 참석했던 성균관대학교 학생 중 한명인 가두현 이라고 합니다.
이제 막 반도체 공정에 대해 공부를 하고 있는 대학원생인데요.
etching시 Trench와 via를 어떻게 구분을 하는건지 궁금해서 글을 남깁니다.
trench와 via를 BEOL과 FEOL에서 따로 구분을 하는건지 헷갈리네요.
이상입니다. 수고하세요~
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76742 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20213 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57169 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68705 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92298 |
229 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 16485 |
228 | 몇가지 질문있습니다 | 16578 |
227 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] | 16657 |
226 | nodule의 형성원인 | 16760 |
225 | sputter | 16845 |
224 | Virtual Matchng | 16853 |
223 | ICP 식각에 대하여... | 16916 |
222 | 플라즈마 처리 | 16932 |
221 | ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. | 16946 |
220 | 형광등으로 부터 플라즈마의 이해 | 17001 |
219 | RF에 대하여,, | 17043 |
218 | PSM을 이용한 Radical측정 방법 | 17073 |
217 | Light flower bulb | 17079 |
216 | 플라즈마를 이용한 발광시스템에 관한 연구 | 17087 |
215 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. | 17191 |
214 | Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. | 17333 |
213 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 17424 |
» | 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] | 17455 |
211 | RF 변화에 영향이 있는건가요? | 17510 |
210 | 유전체 플라즈마 | 17556 |