CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
2020.01.02 18:46
안녕하십니까?
이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.
그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,
그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.
에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.
(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)
확인 및 답변 부탁드립니다.
새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [269] | 76743 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20213 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57169 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68705 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92299 |
148 | self bias [1] | 19471 |
147 | [re] 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! | 19540 |
146 | 플라즈마를 이용한 폐기물 처리 | 19640 |
145 | smsith chart 공식 유도하는 방법? | 19658 |
144 | DC SPT 문의 | 19680 |
143 | Noise 문제, 탐침에 의한 식각 플라즈마의.. | 19688 |
142 | DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 | 19712 |
141 | cross section 질문 [1] | 19713 |
140 | 대기압 상태의 플라즈마 측정 | 19729 |
139 | PM을 한번 하시죠 | 19729 |
138 | 상압플라즈마에서 온도와의 관계를 알고 싶습니다. | 19764 |
» | 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] | 19776 |
136 | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19836 |
135 | CCP의 Vp가 ICP의 Vp보다 높은 이유 | 20010 |
134 | 석영이 사용되는 이유? [1] | 20024 |
133 | 플라즈마 진동수와 전자온도 | 20044 |
132 | Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. | 20204 |
131 | DBD플라즈마와 플라즈마 impedance | 20207 |
130 | 플라즈마 matching | 20238 |