교수님 안녕하십니까, 저희는 한국항공대에 재학하고 있는 학생들입니다.

현재 DBDs 를 활용하여 유동제어 하는 곳에 사용하는 것을 목적으로 기초지식을 이해하고 있는 중에 궁금증이 많은데,

기계공학과이다보니 전기공학분야로는 문외한이라 이렇게 질문을 드립니다.


1. DBDs 를 통한 유동제어에서 유동을 생성하는 주요한 인자가 양이온의 크기로 인한 공기중의 분자와 충돌인지, 혹은 전자의 가볍고 빠른 충돌로 인한 에너지 전달로써 공기중의 분자를 이동시키는 것인지 궁금합니다.

2. 또한 DC를 사용하여도 플라즈마가 생성되는 것으로 알고 있는데, DBDs는 왜 DC를 사용하지 않고 AC를 사용하는지? 궁금합니다. (DC를 사용해도 유동방향이 생기는데, 왜 AC를 사용하는 것인지 궁금합니다.)  (여기서, 저희가 DC를 사용하는 것이 계속적으로 전력을 공급하면 열에너지에 의해서 아크방전 영역으로 발전하여 방전이 유지되지 않기 때문에 AC를 사용하는 것이라 추측하였는데, 이것이 맞는 가정인지도 궁금합니다.)

3. DBDs 에서 유전체를 사용하는데, 유전체를 이용하면 유동바람을 생성하는데 많은 장점이 있는 건가요?


너무 기초적인 질문이라 답변하시기 귀찮으실 것 같다는 생각도 드는데..저희가 약 한달간 공부했는데, 정확한 이유를 알지 못하는 부분입니다. 꼭 부탁드립니다 ㅠㅠ

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [275] 76815
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20244
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57186
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68737
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92574
535 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1241
534 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1248
533 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1248
532 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1249
531 플라즈마 챔버 [2] 1251
530 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1274
529 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1275
528 플라즈마 기초입니다 [1] 1287
527 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1295
526 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1302
525 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1312
524 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1320
523 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1322
522 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1329
» DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1331
520 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1340
519 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1340
518 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1354
517 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1354
516 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 1354

Boards


XE Login